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纳米晶磁膜及其在微型磁性器件中的应用（二）
[发布时间]：2010年8月18日 [来源]：电子变压器资讯网 [点击率]：18593
【导读】： 2.1.4后期处理溅射纳米晶颗粒膜的后期处理是在真空状态下10-6Torr，分别在静磁场（UFA）和旋转磁场（RFA）中进行的。热处理的温度范围为100～600℃，保温1小时，升降温速度为100℃...

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为了感生单轴各向异性，将溅射沉积完成的Fe-Hf-O磁膜置于2(kOe)的磁场中，在真空状态加热至573k，退火1小时（如果在Co-Fe-Hf-O磁膜溅射沉积到基片上的过程中外加磁场，也可感生出单轴各向异性）。通过透射电镜(TEM)和纳米束能量散射X射线仪(EDX)分析的结果可知，这些高电阻率磁膜具有纳米晶结构，它们由纳米量级的富Fe(Fe-Co)晶粒和富Hf-O非晶基体组成。由于纳米晶结构中存在富Hf-O基体，致使该磁膜呈现出高电阻率。

3.1.2微型器件结构与性能分析

a．平面夹层膜微型电感器

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